114年第2次牙醫師國考 牙醫學(五)(包括全口贗復學、局部贗復學、牙冠牙橋學、咬合學等科目及其相關臨床實例與醫學倫理) 第4題|官方答案與詳解
第2階段
上顎全口活動義齒印模時,下列何處不需要緩壓?
官方答案
D
詳解
考點:選擇性加壓印模保護敏感與低耐壓區,健康上顎粗隆可提供支持。
D的健康、穩定上顎粗隆屬可承托區,在本題採用的選擇性加壓配置中無須列為常規緩壓區。
- 不選:腭隆凸覆蓋黏膜薄、缺少緩衝,通常需緩壓以免受壓疼痛。
- 不選的部位條件是銳利嵴頂或薄黏膜:應作適當緩壓,平坦且健康的承托嵴則可承壓。
- 不選的配置條件是避免腭皺區軟組織位移:本題採選擇性加壓配置將其納入緩壓,具體範圍依牙托設計。
- 正解:健康上顎粗隆可提供支持,不屬本題必須緩壓的部位。
依據
- Prosthodontic Treatment for Edentulous Patients, 13th ed. (Zarb et al., 2013) — 8. Maxillary and Mandibular Analougue/Substitutes for the Denture-Bearing Area
來源:考選部原試題 PDF(第 1 頁) · 官方答案 · 官方更正公告
來源取得日期:2026-10-27