114年第2次牙醫師國考 牙醫學(五)(包括全口贗復學、局部贗復學、牙冠牙橋學、咬合學等科目及其相關臨床實例與醫學倫理) 第4題|官方答案與詳解

第2階段

上顎全口活動義齒印模時,下列何處不需要緩壓?
  1. 腭隆突(palatal torus)
  2. 齒槽骨嵴(alveolar ridge)
  3. 腭皺區(rugae)
  4. 上顎骨粗隆(maxillary tuberosity)

官方答案

D

詳解

考點:選擇性加壓印模保護敏感與低耐壓區,健康上顎粗隆可提供支持。

D的健康、穩定上顎粗隆屬可承托區,在本題採用的選擇性加壓配置中無須列為常規緩壓區。

  1. 不選:腭隆凸覆蓋黏膜薄、缺少緩衝,通常需緩壓以免受壓疼痛。
  2. 不選的部位條件是銳利嵴頂或薄黏膜:應作適當緩壓,平坦且健康的承托嵴則可承壓。
  3. 不選的配置條件是避免腭皺區軟組織位移:本題採選擇性加壓配置將其納入緩壓,具體範圍依牙托設計。
  4. 正解:健康上顎粗隆可提供支持,不屬本題必須緩壓的部位。

依據

來源:考選部原試題 PDF(第 1 頁) · 官方答案 · 官方更正公告
來源取得日期:2026-10-27

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