牙醫師歷屆試題 / 牙醫學(二)（包括口腔病理學、牙科材料學、口腔微生物學、牙科藥理學等科目及其臨床相關知識）

114年第1次牙醫師國考 牙醫學(二)（包括口腔病理學、牙科材料學、口腔微生物學、牙科藥理學等科目及其臨床相關知識） 第40題｜官方答案

第1階段

1. 過敏反應通常由殘餘單體（residual monomer）所造成
2. 可以由浸泡水中達17 小時來減少殘餘單體（residual monomer）
3. 殘餘單體（residual monomer）在血液中的半衰期約20～40 小時
4. 操作者的接觸性皮膚炎也是對基底樹脂的一種過敏反應

官方答案

詳解

來源：考選部原試題 PDF（第 10 頁） · 官方答案 · 官方更正公告
來源取得日期：2026-10-27