112年第1次牙醫師國考 牙醫學(五)(包括全口贗復學、局部贗復學、牙冠牙橋學、咬合學等科目及其相關臨床實例與醫學倫理) 第36題|官方答案

第2階段

有關製作可撤式局部義齒時進行主模型封凹(blockout)與緩壓(relief)的處理,下列敘述何者錯誤?
  1. 一般常使用蠟作為封凹的材料
  2. 缺後牙的局部義齒製作,上顎唇側前庭倒凹區的封凹處理,屬於任意式封凹處理
  3. 模型上牙齒的析量線(survey line)以下所有倒凹區,均須進行封凹處理
  4. 模型上缺牙區貼透明緩壓蠟時,應距離支柱牙牙齦邊緣1.5mm以上

官方答案

C

詳解

詳解整理中

來源:考選部原試題 PDF(第 7 頁) · 官方答案
來源取得日期:2026-10-27

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